书目详细信息
： 多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流场分析
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-5639-7683-6:CNY56.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒雾化过程流场分析/.廖达海，宁翔，吴南星著 |
| 出版发行项： | 北京:,北京工业大学出版社:,2020 |
| 载体形态项： | 126页:;+图:;+24cm |
| 提要文摘： | 本书深人地阐述了多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化过程，同时重点对雾化喷嘴结构与多相流旋转耦合场制备Si3N4颗粒的雾化效果进行了详细、系统的论述。 |
| 题名主题： | 氮化硅陶瓷 制备 |
| 中图分类： | TQ174 |
| 个人名称等同： | 廖达海 著 |
| 个人名称等同： | 宁翔 著 |
| 个人名称等同： | 吴南星 著 |
| 记录来源： | CN CQYZTSG 20241216 |